龙八国际

高要求光掩膜基版
主要包括到现阶段世界里最现代化出产、查重系统与新工艺工程师性，根据子公司独创性技艺性，建起要能出产75×75mm至700×800mm很多的规格的溅射匀胶铬版出产线，类产品比较广泛运用于创新手机平板表现电子器件、一体化电路板、高效化光电、方式板、微纳代加工及皮秒激光真伪鉴别等多种不同家产的光掩膜开发

 
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